⭐中国现在有7nm光刻机吗

本文目录一览：

• 1、国产7nm也要来了？中科院传来好消息，高端芯片有望量产
• 2、中国光刻机现在达到了哪个水平？
• 3、国产7nm设备传来消息，中国芯片加速前行，台积电始料未及

国产7nm也要来了？中科院传来好消息，高端芯片有望量产

国产高端芯片的进程

国内大部分的消费者都集中在中低端市场，但是在各大手机厂商推广高端手机的情况下，也形成了不小的高端消费市场。比如小米11、华为Mate40、iPhone12等等搭载的芯片都是5nm制程。

哪怕是市面上一般的中低端机型，也是采用7nm制程的芯片处理器。可以说7nm成为了高端消费市场的最低门槛。

可是中国大陆厂商时至今日也没能生产出7nm处理器，只有台积电和三星能够量产7nm制程芯片。尽管7nm的高端消费市场的最低门槛，可是这部分的代工市场一直掌握在台积电，三星两大巨头手中。

中国有非常有优秀的芯片制造商，难道会舍弃这块市场吗？答案是不可能。

据了解，中国大陆规模最大的芯片代工厂中芯国际曾计划试产7nm。中芯国际联合首席执行官梁孟松曾经透露，已经将技术攻克到7nm阶段，将在今年4月份试产。

这一消息让国人认识到，国产企业也是有能力参与高端芯片市场竞争的。如果试产成功，并进入到量产阶段，那么中芯国际将成为继台积电，三星之后，世界上第三个掌握7nm工艺的厂商。国产高端芯片的进程已经进入到7nm领域了。

国产7nm也要来了？

令人怀疑的是，从宣布试产7nm以来，一直都没有消息传来。让不少人猜测是不是没有取得进展。关于这一点，中科院传来好消息，事关国产7nm芯片。

国内能突破7nm芯片量产技术的只有中芯国际，中芯国际虽没有消息传出，但中科院透露一则好消息。

据中科院计算技术研究所副所长包云岗表示，国产芯片制造技术取得巨大的进步，最晚到明年初就有望实现7nm芯片的批量生产。

国产7nm也要来了？如果包云岗博士所言无误的话，那么国产高端芯片有望量产，而且量产的时间也不会让大家等太久。明年应该就能看到相应的成果了。

这也进一步验证了梁孟松的话，中芯国际果真在7nm取得了突破。

一旦实现7nm的量产，其意义是非常重大的。不仅可以增大国产芯片在高端消费市场的竞争力，也能在诸多核心技术摆脱对国外的依赖。

不只是7nm，中芯国际也掌握了28nm，14nm的量产工艺，其中14nm的良率水准更是追平台积电。用中芯国际的话说就是用信心在同类产品上，和任何公司做比较。

国产芯片崛起有望

台积电率先掌握7nm量产工艺又如何，中芯国际也在加速。中科院包云岗作为业内权威人士，一定是看到了国产芯片产业的进展。所以也期待如包云岗所说，能早日看到国产7nm芯片产品诞生。

国产芯片走过了十几年，一直在追赶国外的脚步。因为国外有深厚的技术底蕴，并掌握了许多基础核心技术，设备，材料的研发都走在前头。

可是国产芯片也已经攻克许多项技术难题，在相应的领域都有供应商企业在参与。随着国产28nm至7nm芯片的顺利量产，国产芯片将崛起有望。

国内企业对芯片的需求也有很大可能性靠国产芯片来解决，当美国不允许供应商向华为出货，代工芯片时，我们就该知道必须靠自己的力量才能解决问题。

现在这份力量越来越强大，迟早有一天，国产芯片也能在高端工艺领域取得巨大成就，再也不用受制于国外。

总结

国产半导体行业当中，制造是最难的，需要集成非常多的设备，技术和材料工艺。任何一项技术的疏漏都有可能导致芯片制造失败。

越是高端的芯片对技术要求就越高，在技术方面中芯国际已经有不错的沉淀。或许唯一要解决的就是高端光刻机的供货，路还很长，虽然有进步但还不可骄傲。希望国产芯片继续努力，走向成功。

对国产高端芯片你有什么看法呢？

中国光刻机现在达到了哪个水平？

中国光刻机现在达到了22纳米。在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。

这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

国产7nm设备传来消息，中国芯片加速前行，台积电始料未及

众所周知，在芯片半导体领域，除了芯片是至关重要的，还有一些设备的重要性比起芯片来，也是丝毫不差的，若是没有这些设备，芯片的制造那就无法进行。

在此之前，我国之所以无法提高芯片制造的产能和技术水平，那就是因为这些设备都是为国外的企业垄断了，限制了我国的芯片半导体产业的发展。

为了改变这一现状，我国的，芯片半导体企业、科研机构与国内高校三方联手，倾力合作，立志要将生产制造芯片的所有有关的设备都研究开发出来，势必要让我国的芯片半导体企业摆脱国外的制约，打破国外企业的垄断。

正是在这种大环境下，那些被国外垄断的设备技术接连不断地传来破冰的喜讯。光刻机领域的突破，更是令国内的芯片半导体企业兴奋不已，要知道在光刻机领域，一直是由荷兰的阿斯麦公司所垄断，实质是由美国所掌控。其公司旗下的EUV光刻机是当今全球最为先进的光刻机。

如今，我国的上海微电子将光刻机实现了国产化，虽然只是28nm光刻机，比起荷兰的7nmEUV光刻机有些差距，但也是极其良好的开端，以后自然会实现高端光刻机的国产化。

此外，还有一些设备迎来了重大突破，比如，中国电科的28nm全谱系离子注入机，南大光电的Krf高端光刻胶，这些和上海微电子的光刻机一般，都是在28nm的精度水准。不过此时仍是28nm及其以上芯片的主流市场，所以说这些中低端设备的突破是有着极大的意义和作用的。

在这些中低端设备频繁传来喜讯之后，高端的设备也是不甘人后，同样传来了喜讯。近日，至纯 科技 公司正式官宣，14nm与7nm的湿法设备将于明年正式落地，并且该公司已经决定，将湿法设备供应给华为和中芯国际，这无疑将会给华为和中芯国际带来巨大的好处。

值得一提的是，中微半导体也实现了高端设备的突破，其研制的5nm刻蚀机已经实现国产化，并且总体性能不比国外的差。

在设备领域的不断破冰，给国人带来了极大的鼓舞，让国人相信我国的芯片半导体产业一定会达到乃至超越国际先进水平。

为了更好地集中优势资源，优化资源利用，我国在上海成立了总投资高达5000亿的东方芯港，从材料、技术以及设备等多个细分领域入手，从而促进中国芯的快速发展。

据悉，上海已经开始在3nm等先进半导体领域加大研究投入，给相关的先进芯片设备制造以及先进芯片研发的企业更过的政策扶持。这就吸引了华为、中芯国际、上海微电子以及中微半导体等国内顶尖 科技 类企业竞相入驻。

相信在国家的牵头下，得到更多政策扶持国内芯片半导体企业，将会更加注重于先进芯片的研究开发以及先进设备的研制。

如今中国的中低端产能已经达到了一个前所未有的高度，所以不用担心此时加大力度进军高端芯片领域而忽视中低端芯片领域。日产10亿颗以及单月399亿颗芯片产能，满足目前国内的芯片需求已是绰绰有余。

此时的中国已经完全不必担心中低端芯片产能不足了，所以自然就将重心慢慢向高端领域转移，以求缩短与国际先进水平的差距。

看到中国如此不遗余力地进行先进芯片以及先进设备研究开发，台积电的心算是彻底的慌了，甚至已经想到数年之后，中国实现了芯片的自给自足，无论低、中、高三种级别的芯片，还是各种生产制造芯片设备，都是具备齐全。

台积电作为全球最先进的芯片代工企业，占据着全球将近一半的市场份额，除了美国的订单外，基本上来自中国，若是中国真的实现了完全的自给自足，那么台积电自然要损失很大。

这是中国在经历制裁后，坚定不移要走的道路，谁也无法阻拦，如今的中国芯已经在中低端领域稳住根基，自然要全力占据高端领域。对于中国芯片领域的强势崛起，台积电始料未及，更是无法阻挡。

发布时间：2024-04-29 10:29